Polvo de pulido óptico FO para el pulido de obleas de 12 pulgadas.
El polvo de pulido óptico FO es un abrasivo compuesto de alta precisión especialmente optimizado para el proceso de planarización ultrafina de obleas semiconductoras de 12 pulgadas. Gracias a su fórmula compuesta modificada de alúmina y zirconia, presenta una distribución uniforme de partículas, una dureza moderada y estable, y una excelente suspensión en suspensión, lo que cumple a la perfección con los estrictos requisitos de pulido CMP de obleas de gran tamaño.
Este producto se aplica profesionalmente al pulido de precisión integral de obleas de silicio de 12 pulgadas, arseniuro de galio, fosfuro de indio y otras obleas de semiconductores compuestos. Elimina eficazmente los microdefectos superficiales, las marcas de corte y las capas irregulares sin causar microarañazos, poros ni residuos de tensión superficial. Logra una planarización superficial ultrasuave y mejora notablemente la planitud, el paralelismo y el rendimiento general de las obleas de gran diámetro.
Gracias a su consistencia estable y a la tasa de eliminación de material controlable, se adapta a la producción en masa automatizada de obleas de 12 pulgadas. Puede sustituir perfectamente al polvo de pulido de alta gama importado, y admite especificaciones de partículas personalizadas. Ideal para la fabricación de semiconductores, el procesamiento de sustratos de chips optoelectrónicos y otros entornos de alta precisión, es un material de pulido básico rentable y fiable para la producción de obleas a gran escala.
Propiedades físicas y composición química del polvo de pulido óptico %-FO para el pulido de obleas de 12 pulgadas.
| Artículo | Tamaño | Gravedad específica c(g/cm3) | Químico(%) | ||||
| Al2O3 | SiO2 | Fe2O3 | TiO2 | ZrO2 | |||
| FO | #800-#1200 | ≥3,90 | ≥45,0 | ≤20,0 | ≤0,5 | ≤2.0 | ≤33,0 |
| #1500-#3000 | ≥3,90 | ≥40,5 | ≤20,0 | ≤0,7 | ≤2.0 | ≤33,0 | |
Distribución del tamaño de partícula (PSD) del polvo de pulido óptico FO para el pulido de obleas de 12 pulgadas.
| Tamaño | D0 | D3 | D50 | D94 |
| #800 | ≤32,0 | ≤27,0 | 11,3±0,9 | ≥6,5 |
| #1000 | ≤27,0 | ≤23,0 | 9,4±0,8 | ≥5.0 |
| #1200 | ≤23,0 | ≤20,0 | 7,1±0,7 | ≥4.0 |
| #1500 | ≤19.0 | ≤17,0 | 5,5±0,5 | ≥3.0 |
| #2000 | ≤15.0 | ≤14.0 | 4,5±0,4 | ≥2.0 |
| #3000 | ≤12.0 | ≤11.0 | 3,6±0,4 | ≥1,5 |
Micropolvo óptico FO: Aplicaciones principales
–Pulido y rectificado de obleas semiconductoras
–Acabado superficial de diversos vidrios ópticos
–Rectificado y pulido de lentes, prismas, espejos, filtros, etc., de cristales ópticos.
–Acabado superficial de materiales piezoeléctricos
Empaquetado de micropolvo óptico FO
Sacos de PVC de 10 kg + palé
