Polvo de alúmina en plaquetas de 15 µm y 20 µm para el pulido de obleas de arseniuro de galio.
El polvo de alúmina en forma de plaquetas de 15 µm y 20 µm para el pulido de obleas de arseniuro de galio se fabrica a partir de polvo de alúmina industrial de alta calidad y se procesa mediante un proceso de producción especial. La forma cristalina del polvo de pulido de alúmina resultante es hexagonal plana, similar a una tabla, por lo que se denomina polvo de pulido de alúmina en forma de plaquetas o alúmina calcinada en placa.
La pureza de la alúmina en placa supera el 99%, y posee características como resistencia al calor, a la corrosión por ácidos y álcalis, y alta dureza. A diferencia de las partículas esféricas abrasivas tradicionales, la superficie inferior de la alúmina plana es lisa, lo que permite que las partículas se ajusten a la superficie de la pieza durante el rectificado. Esto produce un efecto de deslizamiento que evita que las esquinas afiladas de las partículas rayen la superficie de la pieza. Además, durante el rectificado, la presión se distribuye uniformemente sobre la superficie de las partículas, lo que reduce su rotura y mejora la resistencia al desgaste, optimizando así la eficiencia del rectificado y el acabado superficial.
Para materiales semiconductores como las obleas de silicio, la aplicación de óxido de aluminio en placa puede reducir el tiempo de rectificado, mejorar considerablemente la eficiencia del rectificado, disminuir las pérdidas de la máquina rectificadora, ahorrar mano de obra y costos de rectificado, e incrementar la tasa de aprobación del rectificado. La calidad es similar a la de marcas extranjeras reconocidas.
La eficiencia del rectificado de bulbos de vidrio para tubos de imagen aumenta de 3 a 5 veces;
la tasa de productos calificados aumenta entre un 10 y un 15 %, y la tasa de productos calificados para obleas semiconductoras supera el 99 %;
el consumo de rectificado es entre un 40 % y un 40 % menor que el del polvo de pulido de alúmina común.
Composición química: polvo de alúmina en plaquetas de 15 µm y 20 µm para el pulido de obleas de arseniuro de galio.
| Químico | Valor de garantía | Valor típico |
| Al2O3 | ≥99,0% | 99,36% |
| SiO2 | <0,2% | 0,017% |
| Fe2O3 | <0,1% | 0,03% |
| Na2O | <0,6% | 0,35% |
Propiedades físicas: polvo de alúmina en plaquetas de 15 µm y 20 µm para el pulido de obleas de arseniuro de galio.
| Material | α-Al2O3 |
| Color | Blanco |
| Peso específico | ≥3,9 g/cm³ |
| Dureza de Mohs | 9.0 |
Tamaños disponibles: polvo de alúmina en plaquetas de 15 µm y 20 µm para el pulido de obleas de arseniuro de galio.
| Tipo | D3(um) | D50 (uno) | D94 (µm) |
| HXTA45 | 50,5-56,2 | 33-38,5 | 20,7-24,5 |
| HXTA40 | 39-44,6 | 27,7-31,7 | 18-20 |
| HXTA35 | 35,4-39,8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
| HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13,4-15,6 |
| HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
| HXTA20 | 20,9-24,1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
| HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5.8-6.8 |
| HXTA12 | 11.8-13.8 | 7.6-8.8 | 4.5-5.3 |
| HXTA09 | 8,9-10,5 | 5.9-6.9 | 3.3-3.9 |
| HXTA05 | 6.6-7.8 | 4.3-5.1 | 2,55-3,05 |
| HXTA03 | 4.8-5.6 | 2.8-3.4 | 1.5-2.1 |
Aplicaciones del producto
1) Industria electrónica: rectificado y pulido de obleas de silicio monocristalino semiconductor, cristales de cuarzo, semiconductores compuestos (galio cristalino, fosfatado nano).
2) Industria del vidrio: molienda y procesamiento de cristal, vidrio de cuarzo, pantalla de vidrio para cinescopio, vidrio óptico, sustrato de vidrio para pantallas de cristal líquido (LCD) y cristal de cuarzo.
3) Industria de recubrimientos: recubrimientos especiales y rellenos para proyección por plasma.
4) Industria de procesamiento de metales y cerámica: materiales cerámicos de precisión, materias primas cerámicas sinterizadas, recubrimientos de alta calidad y alta temperatura, etc.
